1、細(xì)菌（fungus)生長(zhǎng)。細(xì)菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲(chóng))在相對(duì)濕度超過(guò)60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對(duì)濕度超過(guò)30%時(shí)就可以增長(zhǎng)。而相對(duì)濕度處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至最低。所以無(wú)塵車(chē)間的相對(duì)濕度需要控制（control)在一定范圍。
2、相對(duì)濕度控制（control)不好，容易造成無(wú)塵車(chē)間里的金屬腐蝕。GMP凈化車(chē)間GMP是一套適用于制藥、食品等行業(yè)的強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)，要求企業(yè)從原料、人員、設(shè)施設(shè)備、生產(chǎn)過(guò)程、包裝運(yùn)輸、質(zhì)量控制等方面按國(guó)家有關(guān)法規(guī)達(dá)到衛(wèi)生質(zhì)量要求，形成一套可操作的作業(yè)規(guī)范幫助企業(yè)改善企業(yè)衛(wèi)生環(huán)境，及時(shí)發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程中存在的問(wèn)題，加以改善。很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在凈化車(chē)間周?chē)諝庵械谋砻娑己芸斓乇桓采w上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。一些金屬，例如鋁（Al)，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng)；另一種金屬，例如氧化銅(化學(xué)式Cu)，是不具有保護(hù)能力的。在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。
3、凈化車(chē)間相對(duì)濕度控制不好會(huì)出現(xiàn)靜電(是一種處于靜止?fàn)顟B(tài)的電荷)荷。GMP凈化車(chē)間GMP是一套適用于制藥、食品等行業(yè)的強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)，要求企業(yè)從原料、人員、設(shè)施設(shè)備、生產(chǎn)過(guò)程、包裝運(yùn)輸、質(zhì)量控制等方面按國(guó)家有關(guān)法規(guī)達(dá)到衛(wèi)生質(zhì)量要求，形成一套可操作的作業(yè)規(guī)范幫助企業(yè)改善企業(yè)衛(wèi)生環(huán)境，及時(shí)發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程中存在的問(wèn)題，加以改善。當(dāng)相對(duì)濕度超過(guò)50%時(shí)，靜電荷開(kāi)始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣(insulated)體(定義:不善于傳導(dǎo)電流的物質(zhì) )或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。東莞無(wú)塵車(chē)間相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿(mǎn)意的折中，半導(dǎo)體(semiconductor)無(wú)塵車(chē)間一般都使用額外（extra)的控制裝置以限制靜電荷的積累。
4、吸水性。相對(duì)濕度控制不好，對(duì)凈化車(chē)間吸水性產(chǎn)出一定的影響。
5、水汽冷凝。在相對(duì)濕度較高的凈化車(chē)間環(huán)境中，濃縮水形的毛細(xì)管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵，可以增加顆粒與硅(silicon)質(zhì)表面的黏附力。這種效應(yīng)稱(chēng)為凱爾文濃縮，就是當(dāng)相對(duì)濕度小于50%時(shí)并不重要，但當(dāng)相對(duì)濕度在70%左右時(shí)，就成為顆粒之間黏附的主要力量。
6、凈化車(chē)間的濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類(lèi)感覺(jué)舒適的適度范圍。電子廠凈化車(chē)間凈化車(chē)間材料是凈化廠房墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造，其特點(diǎn)為美觀、剛性強(qiáng)、保溫性能好、易施工。圓弧墻角、門(mén)、窗框等一般采用專(zhuān)用氧化鋁型材制造地面可采用環(huán)氧自流坪地坪或高級(jí)耐磨塑料地板，有防靜電要求的，可選用防靜電型。如果凈化車(chē)間濕度過(guò)高會(huì)使人覺(jué)得氣悶，而濕度低于30%則會(huì)讓人感覺(jué)干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快，從而影響工作。
7、凈化車(chē)間光刻的退化。在半導(dǎo)體(semiconductor)無(wú)塵車(chē)間中最迫切需要適度控制（control)的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是最嚴(yán)格的。相對(duì)濕度和溫度對(duì)于光刻膠穩(wěn)定（解釋:穩(wěn)固安定；沒(méi)有變動(dòng))性(The stability of)以及精確的尺寸控制都是很關(guān)鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著相對(duì)濕度的上升而迅速下降(descend)。當(dāng)然，改變粘性，就會(huì)改變由固定組分涂層形成的保護(hù)膜的厚度。
此外，凈化車(chē)間在高的相對(duì)濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤（解釋:用火燥物烤東西)循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)面影響；較低的相對(duì)濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二硅氮烷。
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