1、細菌（fungus)生長。細菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲)在相對濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對濕度超過30%時就可以增長。而相對濕度處于40%至60%的范圍之間時，可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至最低。所以無塵車間的相對濕度需要控制（control)在一定范圍。
2、相對濕度控制（control)不好，容易造成無塵車間里的金屬腐蝕。GMP凈化車間GMP是一套適用于制藥、食品等行業(yè)的強制性標準，要求企業(yè)從原料、人員、設施設備、生產過程、包裝運輸、質量控制等方面按國家有關法規(guī)達到衛(wèi)生質量要求，形成一套可操作的作業(yè)規(guī)范幫助企業(yè)改善企業(yè)衛(wèi)生環(huán)境，及時發(fā)現(xiàn)生產過程中存在的問題，加以改善。很多化學反應的速度，包括腐蝕過程，將隨著相對濕度的增高而加快。所有暴露在凈化車間周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當這些表面是由可以與水反應的薄金屬涂層組成時，高濕度可以使反應加速。一些金屬，例如鋁（Al)，可以與水形成一層保護型的氧化物，并阻止進一步的氧化反應；另一種金屬，例如氧化銅(化學式Cu)，是不具有保護能力的。在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。
3、凈化車間相對濕度控制不好會出現(xiàn)靜電(是一種處于靜止狀態(tài)的電荷)荷。GMP凈化車間GMP是一套適用于制藥、食品等行業(yè)的強制性標準，要求企業(yè)從原料、人員、設施設備、生產過程、包裝運輸、質量控制等方面按國家有關法規(guī)達到衛(wèi)生質量要求，形成一套可操作的作業(yè)規(guī)范幫助企業(yè)改善企業(yè)衛(wèi)生環(huán)境，及時發(fā)現(xiàn)生產過程中存在的問題，加以改善。當相對濕度超過50%時，靜電荷開始迅速消散，但是當相對濕度小于30%時，它們可以在絕緣(insulated)體(定義:不善于傳導電流的物質 )或者未接地的表面上持續(xù)存在很長一段時間。東莞無塵車間相對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中，半導體(semiconductor)無塵車間一般都使用額外（extra)的控制裝置以限制靜電荷的積累。
4、吸水性。相對濕度控制不好，對凈化車間吸水性產出一定的影響。
5、水汽冷凝。在相對濕度較高的凈化車間環(huán)境中，濃縮水形的毛細管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵，可以增加顆粒與硅(silicon)質表面的黏附力。這種效應稱為凱爾文濃縮，就是當相對濕度小于50%時并不重要，但當相對濕度在70%左右時，就成為顆粒之間黏附的主要力量。
6、凈化車間的濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。電子廠凈化車間凈化車間材料是凈化廠房墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造，其特點為美觀、剛性強、保溫性能好、易施工。圓弧墻角、門、窗框等一般采用專用氧化鋁型材制造地面可采用環(huán)氧自流坪地坪或高級耐磨塑料地板，有防靜電要求的，可選用防靜電型。如果凈化車間濕度過高會使人覺得氣悶，而濕度低于30%則會讓人感覺干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快，從而影響工作。
7、凈化車間光刻的退化。在半導體(semiconductor)無塵車間中最迫切需要適度控制（control)的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對相對濕度極為敏感的特性，它對相對濕度的控制范圍的要求是最嚴格的。相對濕度和溫度對于光刻膠穩(wěn)定（解釋:穩(wěn)固安定；沒有變動)性(The stability of)以及精確的尺寸控制都是很關鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著相對濕度的上升而迅速下降(descend)。當然，改變粘性，就會改變由固定組分涂層形成的保護膜的厚度。
此外，凈化車間在高的相對濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤（解釋:用火燥物烤東西)循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對濕度的負面影響；較低的相對濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二硅氮烷。
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